Placa de distribuição de gás de quartzo

As placas de distribuição de gás de quartzo, também conhecidas como chuveiros de quartzo, são componentes críticos na fabricação de semicondutores. Aproveitando a pureza excepcional, a resistência de alta temperatura e a resistência à corrosão do quartzo, essas placas garantem um fluxo uniforme e estável de gases de processo na superfície da wafer. Essa entrega precisa é essencial para manter a qualidade e a uniformidade de filmes depositados ou recursos gravados.

Principais características do quartzo fundido de alta pureza

● Material: 99,99%Quartz fundido de alta pureza

● Resistência a alta temperatura: Suporta temperaturas acima de 1000 ℃

● Resistência à corrosão: Excelente durabilidade contra gases de processo e ambientes de plasma

● Fluxo de gás de precisão: Distribuição uniforme de micro-orcuros para entrega ideal de gás e uniformidade de deposição

● Design personalizável: Tamanho, padrão de orifício e recursos de montagem podem ser adaptados para modelos de equipamentos específicos

Funções principais na fabricação de semicondutores

1. Deposição de vapor físico (PVD) e deposição de vapor químico (CVD)

Papel;

Usos específicos:

● Controle de uniformidade: os micro-ataques projetados da placa garantem que o fluxo e a concentração do gás sejam uniformes em toda a superfície da wafer. Isso é vital para depositar filmes com espessura e desempenho consistentes.

● Prevenção de contaminação: a alta pureza do quartzo impede a placa de reagir com gases de processo ou liberar impurezas. Isso mantém a pureza do filme e evita defeitos na superfície da wafer.

2. Deposição de vapor químico aprimorado por plasma (PECVD)

Papel: No PECVD, o chuveiro de quartzo não apenas fornece gases reativos, mas também funciona como um eletrodo para a geração de plasma.

Usos específicos:

● Ignição de plasma: o chuveiro é normalmente conectado a uma fonte de energia de radiofrequência (RF) para gerar um plasma. Partículas de alta energia no plasma promovem a decomposição de reagentes gasosos, permitindo a deposição de filmes em temperaturas mais baixas.

● Estabilidade térmica: o quartzo exibe excelente estabilidade térmica, permitindo suportar o ambiente de plasma de alta temperatura. Isso ajuda a manter uma temperatura uniforme na câmara de processo, garantindo ainda mais a qualidade e a consistência do filme.

3. Gravura a seco

Papel: Na gravação a seco, a placa de distribuição de gás introduz gases de gravação reativa (por exemplo, fluorocarbonetos, cloro) na câmara de gravação.

Usos específicos:

● Uniformidade da gravação: a placa garante um fluxo uniforme e concentração de gases de gravação, o que garante profundidade e perfil consistentes de gravação em toda a bolacha. Isso é crucial para alcançar os padrões precisos necessários para dispositivos semicondutores avançados.

● Resistência à corrosão: as fortes propriedades corrosivas dos gases de gravação exigem um material durável. A alta resistência à corrosão do quartzo estende a vida útil do chuveiro e reduz o risco de interrupções do processo.

4. Limpeza de bolas

Papel: Em processos específicos de limpeza de wafer, uma placa de distribuição de gás de quartzo é usada para fornecer gases de limpeza (por exemplo, ozônio, amônia) uniformemente à superfície da wafer para remover resíduos ou contaminantes.

Usos específicos:

● Limpeza consistente: a placa garante que os gases de limpeza atinjam todas as partes da bolacha, permitindo um processo de limpeza completo e uniforme.

● Compatibilidade química: a compatibilidade do Quartz com uma ampla gama de produtos químicos de limpeza evita reações e mantém a pureza e a eficácia do processo de limpeza.