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CVD TAC Coating Crucible
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CVD TAC Coating Crucible

O vetek semicondutor é um fabricante profissional e líder da CVD TAC Coating Crucible Products na China. CVD TAC Coating Crucible é baseado no revestimento de carbono de tântalo (TAC). O revestimento de carbono de tântalo é uniformemente coberto na superfície do cadinho através do processo de deposição de vapor químico (DCV) para melhorar sua resistência ao calor e resistência à corrosão. É uma ferramenta material usada especialmente em ambientes extremos de alta temperatura. Dê boas -vindas à sua consulta adicional.

O susceptador de rotação do revestimento TAC desempenha um papel fundamental nos processos de deposição de alta temperatura, como CVD e MBE, e é um componente importante para o processamento de wafer na fabricação de semicondutores. Entre eles,Revestimento TACPossui excelente resistência a alta temperatura, resistência à corrosão e estabilidade química, o que garante alta precisão e alta qualidade durante o processamento da wafer.


CVD TAC Coating Crucible geralmente consiste em revestimento TAC egrafitesubstrato. Entre eles, o TAC é um material cerâmico de alto ponto de fusão com um ponto de fusão de até 3880 ° C. Possui dureza extremamente alta (dureza Vickers até 2000 HV), resistência à corrosão química e forte resistência a oxidação. Portanto, o revestimento TAC é um excelente material resistente à alta temperatura na tecnologia de processamento de semicondutores.

O substrato de grafite tem boa condutividade térmica (a condutividade térmica é de cerca de 21 W/m · k) e excelente estabilidade mecânica. Essa característica determina que a grafite se torna um revestimento idealsubstrato.


CVD TAC Coating Crucible é usado principalmente nas seguintes tecnologias de processamento de semicondutores:


Fabricação de bolacha: O cadinho de revestimento TAC semicondutor CVD VETEK possui excelente resistência à alta temperatura (ponto de fusão de até 3880 ° C) e resistência à corrosão, por isso é frequentemente usado em processos de fabricação de bolacha, como deposição de vapor de alta temperatura (DCV) e crescimento epitaxial. Combinado com a excelente estabilidade estrutural do produto em ambientes de temperatura ultra-alta, garante que o equipamento possa operar de forma estável por um longo tempo sob condições extremamente adversas, melhorando efetivamente a eficiência da produção e a qualidade das bolachas.


Processo de crescimento epitaxial: Em processos epitaxiais, comoDeposição de vapor químico (CVD)e epitaxia de feixe molecular (MBE), o revestimento do CVD TAC cadinho desempenha um papel fundamental no transporte. Seu revestimento TAC pode não apenas manter a alta pureza do material sob temperatura extrema e atmosfera corrosiva, mas também impedir efetivamente a contaminação dos reagentes no material e a corrosão do reator, garantindo a precisão do processo de produção e da consistência do produto.


Como o principal fabricante e líder do CVD TAC da China, o vetek semicondutor pode fornecer produtos e serviços técnicos personalizados de acordo com seus requisitos de equipamento e processo. Sinceramente, esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.


Revestimento de carboneto de tântalo (TAC) em uma seção transversal microscópica


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


Propriedades físicas do revestimento TAC


Propriedades físicas do revestimento TAC
Densidade
14.3 (g/cm³)
Emissividade específica
0.3
Coeficiente de expansão térmica
6.3*10-6/K
Dureza (hk)
2000 HK
Resistência
1 × 10-5Ohm*cm
Estabilidade térmica
<2500 ℃
Mudanças de tamanho de grafite
-10 ~ -20um
Espessura do revestimento
≥20um valor típico (35um ± 10um)


É semicondutor CVD TAC Coating Crucible Lojas:


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