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Tacing guia de revestimento anéis
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Tacing guia de revestimento anéis

Como fabricante líder de produtos do TAC Coating Guide anéis na China, os anéis de guia revestidos com semicondutores de vetek são componentes importantes em equipamentos de MOCVD, garantindo a entrega precisa e estável de gás durante o crescimento epitaxial e são um material indispensável no crescimento epitaxial semicondutor. Bem -vindo para nos consultar.

Função dos anéis guia de revestimento TAC:


Controle preciso de fluxo de gás: OAnel de guia de revestimento TACestá estrategicamente posicionado dentro do sistema de injeção de gás doReator MOCVD. Sua função principal é direcionar o fluxo de gases precursores e garantir sua distribuição uniforme na superfície da wafer de substrato. Esse controle preciso sobre a dinâmica do fluxo de gás é essencial para alcançar o crescimento uniforme da camada epitaxial e as propriedades desejadas do material.

Gerenciamento térmico: Os anéis do guia de revestimento TAC geralmente opera a temperaturas elevadas devido à sua proximidade com o suscettor e o substrato aquecidos. A excelente condutividade térmica do TAC ajuda a dissipar o calor de maneira eficaz, impedindo o superaquecimento localizado e mantendo um perfil de temperatura estável dentro da zona de reação.


Vantagens do TAC em MOCVD:


Resistência à temperatura extrema: O TAC possui um dos pontos de fusão mais altos entre todos os materiais, excedendo 3800 ° C.

Ineridade química excepcional: O TAC exibe resistência excepcional à corrosão e ataque químico dos gases precursores reativos utilizados no MOCVD, como amônia, silano e vários compostos metal-orgânicos.


Propriedades físicas deRevestimento TAC:

Propriedades físicas deRevestimento TAC
Densidade
14.3 (g/cm³)
Emissividade específica
0.3
Coeficiente de expansão térmica
6.3*10-6/K
Dureza (hk)
2000 HK
Resistência
1 × 10-5Ohm*cm
Estabilidade térmica
<2500 ℃
Mudanças de tamanho de grafite
-10 ~ -20um
Espessura do revestimento
≥20um valor típico (35um ± 10um)


Benefícios para o desempenho do MOCVD:


O uso do anel de guia de revestimento TAC semicondutores vetek em equipamentos MOCVD contribui significativamente para:

Aumento do tempo de atividade do equipamento: A durabilidade e a vida útil prolongada do anel da guia de revestimento TAC reduzem a necessidade de substituições frequentes, minimizando o tempo de inatividade de manutenção e maximizando a eficiência operacional do sistema MOCVD.

Estabilidade de processo aprimorada: A estabilidade térmica e a inércia química do TAC contribuem para um ambiente de reação mais estável e controlado na câmara do MOCVD, minimizando variações do processo e melhorando a reprodutibilidade.

Uniformidade da camada epitaxial aprimorada:Crescimento da camada epitaxialcom espessura e composição consistentes.


Revestimento de carboneto de tântalo (tac)em uma seção transversal microscópica:

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


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