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Epitaxia de Silício

Epitaxia de Silício, EPI, Epitaxia, Epitaxial refere-se ao crescimento de uma camada de cristal com a mesma direção de cristal e diferentes espessuras de cristal em um único substrato de silício cristalino. A tecnologia de crescimento epitaxial é necessária para a fabricação de componentes discretos semicondutores e circuitos integrados, porque as impurezas contidas nos semicondutores incluem o tipo N e o tipo P. Através de uma combinação de diferentes tipos, os dispositivos semicondutores exibem uma variedade de funções.


O método de crescimento de epitaxia de silício pode ser dividido em epitaxia de fase gasosa, epitaxia de fase líquida (LPE), epitaxia de fase sólida, método de crescimento de deposição de vapor químico é amplamente utilizado no mundo para atender à integridade da rede.


O equipamento epitaxial de silício típico é representado pela empresa italiana LPE, que possui tor hipnótico epitaxial panqueca, tor hipnótico tipo barril, hipnótico semicondutor, transportador de wafer e assim por diante. O diagrama esquemático da câmara de reação do hypector epitaxial em forma de barril é o seguinte. A VeTek Semiconductor pode fornecer um hy pector epitaxial de wafer em forma de barril. A qualidade do pelector HY revestido com SiC é muito madura. Qualidade equivalente a SGL; Ao mesmo tempo, a VeTek Semiconductor também pode fornecer bocal de quartzo com cavidade de reação epitaxial de silício, defletor de quartzo, redoma de vidro e outros produtos completos.


Susceptor Epitaxial Vertical para Epitaxia de Silício:


Schematic diagram of Vertical Epitaxial Susceptor for Silicon Epitaxy


Principais produtos susceptores epitaxiais verticais da VeTek Semiconductor


SiC Coated Graphite Barrel Susceptor for EPI Susceptor de barril de grafite revestido de SiC para EPI SiC Coated Barrel Susceptor Susceptor de barril revestido de SiC CVD SiC Coated Barrel Susceptor Susceptor de barril revestido de CVD SiC LPE SI EPI Susceptor Set Conjunto de receptores LPE SI EPI



Susceptor Epitaxial Horizontal para Epitaxia de Silício:


Schematic diagram of Horizontal Epitaxial Susceptor for Silicon Epitaxy


Principais produtos susceptores epitaxiais horizontais da Vetek Semiconductor


SiC coating Monocrystalline silicon epitaxial tray Bandeja epitaxial de silício monocristalino com revestimento SiC SiC Coated Support for LPE PE2061S Suporte revestido de SiC para LPE PE2061S Graphite Rotating Susceptor Receptor Rotativo de Grafite



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CVD SiC Coating Baffle

CVD SiC Coating Baffle

O defletor de revestimento CVD SiC do VETEK é usado principalmente no epitaxia do SI. Geralmente é usado com barris de extensão de silício. Ele combina a alta temperatura e a estabilidade exclusiva do conflito de revestimento CVD SiC, o que melhora bastante a distribuição uniforme do fluxo de ar na fabricação de semicondutores. Acreditamos que nossos produtos podem trazer tecnologia avançada e soluções de produtos de alta qualidade.
Susceptador de barril revestido com sic

Susceptador de barril revestido com sic

A epitaxia é uma técnica usada na fabricação de dispositivos de semicondutores para cultivar novos cristais em um chip existente para criar uma nova camada de semicondutores.Vetek Semicondutores oferece um conjunto abrangente de soluções de componentes para o LPE Silicon Epitaxy Chambers, proporcionando longos longos de vida, qualidade estável e epitaxial e melhorado rendimento da camada. Nosso produto, como o susceptador de barril revestido com SiC, recebeu feedback de posição dos clientes. Também fornecemos suporte técnico para SI EPI, SIC EPI, MOCVD, epitaxia liderada por UV e muito mais. Sinta -se à vontade para perguntar para obter informações sobre preços.
Se o receptor EPI

Se o receptor EPI

A China Top Factory-Vetek Semiconductor combina a usinagem de precisão e as capacidades de revestimento SIC e TAC semicondutor. O Si EPI Susceptador do Tipo de Barril fornece recursos de controle de temperatura e atmosfera, aumentando a eficiência da produção nos processos de crescimento epitaxial de semicondutores. Ligando -se para a criação do relacionamento de cooperação com você.
Assim revestido com aulas de epi

Assim revestido com aulas de epi

Como principal fabricante nacional de revestimentos de carboneto de silício e carboneto de tântalo, a VeTek Semiconductor é capaz de fornecer usinagem de precisão e revestimento uniforme de Epi Susceptor revestido com SiC, controlando efetivamente a pureza do revestimento e do produto abaixo de 5 ppm. A vida útil do produto é comparável à do SGL. Bem-vindo para nos perguntar.
Conjunto de receptores LPE SI EPI

Conjunto de receptores LPE SI EPI

Susceptor plano e susceptor de barril são a forma principal dos susceptores epi. VeTek Semiconductor é um fabricante líder de conjunto de susceptor LPE Si Epi e inovador na China. Somos especializados em revestimento SiC e revestimento TaC por muitos anos. Conjunto projetado especificamente para wafers LPE PE2061S de 4". O grau de correspondência do material de grafite e do revestimento de SiC é bom, a uniformidade é excelente e a vida é longa, o que pode melhorar o rendimento do crescimento da camada epitaxial durante o processo LPE (epitaxia de fase líquida). Convidamos você a visitar nossa fábrica na China.
Susceptador de barril de grafite revestido com SIC para EPI

Susceptador de barril de grafite revestido com SIC para EPI

A base de aquecimento de wafer epitaxial tipo barril é um produto com tecnologia de processamento complicada, que é muito desafiadora para equipamentos e habilidades de usinagem. A Vetek semiconductor possui equipamentos avançados e rica experiência no processamento de susceptor de barril de grafite revestido de SiC para EPI, pode fornecer o mesmo que a vida de fábrica original, barris epitaxiais mais econômicos.
Como fabricante e fornecedor profissional Epitaxia de Silício na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas da sua região ou deseja comprar uma mensagem avançada e durável Epitaxia de Silício na China, você pode nos deixar uma mensagem.
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