Porta-wafers de quartzo de alta pureza

1. Principais recursos e vantagens

• Quartzo fundido desidroxilado de altíssima pureza (SiO₂ ≥ 99,999%) com impurezas metálicas controladas em níveis de ppb – minimizando a contaminação do wafer

• Temperatura operacional de longo prazo até 1100 °C; resistência de pico de curto prazo até 1200 °C

• Excelente resistência ao choque térmico e estabilidade dimensional sob ciclos frequentes de temperatura

• Forte inércia química contra gases de processo oxidantes e produtos químicos comuns de processo úmido (HF, H₂O₂, ácidos/álcalis)

• Alta planicidade e superfície retificada com precisão com bordas arredondadas para suporte uniforme do wafer e danos reduzidos nas bordas

• Baixa emissão de gases a vácuo e baixa adsorção superficial – adequado para processos de vácuo de precisão

• Estruturas totalmente personalizáveis: transportadores sólidos, designs perfurados/ventilados, recursos de localização escalonados, orifícios de posicionamento, suportes multiponto e designs antideformação espessados ​​para wafers de 2 a 12 polegadas

2. Aplicações Típicas

Esses transportadores são usados ​​sempre que os wafers precisam de suporte limpo e dimensionalmente estável sob temperaturas elevadas ou produtos químicos agressivos:

• Carregamento do forno de difusão e recozimento

• Suporte ao processo de crescimento de filmes PECVD e LPCVD

• Câmara de vácuo e ferramentas de processo de alta temperatura

• Suportes de estação de secagem pós-condicionamento e limpeza úmida

• Processamento térmico de dispositivos de energia SiC e GaN

• Manipulação de substrato optoeletrônico e ferramentas térmicas de laboratório

3. Principais parâmetros técnicos

• Material de base: quartzo fundido desidroxilado de grau semicondutor, SiO₂ ≥ 99,999%

• Tamanhos de wafer compatíveis: 2, 4, 6, 8 e 12 polegadas (Si, SiC, GaN, safira)

• Faixa de temperatura contínua recomendada: −20 °C a 1100 °C; pico de curto prazo até aproximadamente 1200 °C

• Rota de fabricação: conformação de peça única, retificação superficial de precisão, arredondamento de arestas, recozimento com alívio de tensão e limpeza final ultralimpa

• Configurações disponíveis: sólido, ventilado/perfurado, localização escalonada, padrão de furo e geometrias totalmente personalizadas

• Foco no desempenho: alta pureza, estabilidade térmica, resistência à corrosão, planicidade da superfície, baixa liberação de gases e retenção dimensional de longo prazo

• Escopo de personalização: dimensões externas, espessura, geometria de suporte, layout de furo e recursos especiais com base em desenhos do cliente

4. Por que escolher os transportadores de wafer de quartzo de alta pureza VeTek?

Como fabricante profissional de componentes semicondutores de quartzo, a VeTek Semiconductor oferece:

• Transportadores de wafer de quartzo de alta pureza projetados para ambientes térmicos, de vácuo e de processo úmido

• Rigoroso controle de pureza, planicidade de superfície e limpeza adequada para produção avançada de semicondutores

• Personalização completa e projetos compatíveis com OEM para ferramentas de forno, câmara e estação de processo

• Produtos complementares de quartzo semicondutor, incluindo tubos de forno, barcos wafer, cadinhos e outros componentes de processo

Nossos transportadores de wafer de quartzo de alta pureza ajudam a manter o contato térmico uniforme, reduzir a contaminação de partículas e metais e prolongar a vida útil das ferramentas sob condições contínuas de processo corrosivo e de alta temperatura, proporcionando maior rendimento e menor custo de propriedade na fabricação de semicondutores.