Cabeça de chuveiro de grafite revestida com carboneto de silício CVD (SiC)

Principais recursos

• Pureza ultra-alta – O revestimento de SiC sela completamente o grafite, evitando liberação de gases ou contaminação por metal.

• Excelente distribuição de gás – Cada chuveiro é usinado para fornecer uma velocidade de gás consistente em todo o wafer.

• Resistência superior à corrosão – CVD SiC não reage com halogênios ou resíduos de processo. Dura muito mais do que grafite puro ou quartzo.

• Excelente desempenho térmico – O revestimento corresponde perfeitamente à expansão térmica do grafite, evitando rachaduras durante rápidas rampas de temperatura.

• Fabricação de precisão – Usamos usinagem CNC e revestimento CVD interno. Os diâmetros e padrões dos furos são mantidos em tolerâncias restritas.

Especificações Técnicas

Aplicações

Esses chuveiros são usados ​​em:

• Sistemas CVD de semicondutores (produção e pesquisa e desenvolvimento)

• Equipamento PECVD – dielétricos de baixa temperatura

• Reatores MOCVD – compostos III‑V como GaN, InP

• Epitaxia de silício (Si Epi) – para dispositivos de potência e CMOS

• Epitaxia SiC – eletrônica de potência de alta tensão

• Fábricas de semicondutores compostos

• Embalagem avançada (por exemplo, deposição de liner TSV)

• Qualquer ferramenta de película fina que precise de um distribuidor de gás de alta pureza e à prova de corrosão

Por que escolher a VETEK?

• Não somos uma empresa comercial. Tudo – desde a usinagem de grafite até o revestimento final de CVD SiC – é feito internamente. Isso significa que controlamos a qualidade, prazo de entrega e custo.

• Fabricação interna completa – sem surpresas de terceirização

• Tecnologia de revestimento avançada – CVD SiC denso e sem furos

• Suporte de engenharia personalizado – envie-nos o desenho do seu chuveiro ou apenas o modelo do reator

• Cadeia de fornecimento de semicondutores confiável – fornecemos fábricas e OEMs há anos

• Você não precisa requalificar sempre um novo design. Já revestimos chuveiros para muitas plataformas comuns (AMAT, TEL, LAM, ASM, etc.).