CVD SiC Coating Rigid Felt

Como parte importante das peças de grafite de meia -lua do revestimento SiC, o CVD SiC Coating Rigid Felt desempenha um papel importante na preservação do calor durante o processo de crescimento epitaxial do SiC. O vetek semicondutor é um fabricante e fornecedor de feltro rígido de revestimento CVD SiC maduro, que pode fornecer aos clientes que os clientes sejam adequados e excelentes produtos de feltro rígidos de revestimento CVD SiC. O vetek semicondutor espera se tornar seu parceiro de longo prazo na indústria epitaxial.

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Descrição do produto

O revestimento CVD SiC, rígido, é um componente obtido pelo revestimento CVD SiC na superfície do feltro rígido de grafite, que atua como uma camada de isolamento térmico.Cvd SiC Coatingpossui excelentes propriedades, como resistência a alta temperatura, excelentes propriedades mecânicas, estabilidade química, boa condutividade térmica, isolamento elétrico e excelente resistência a oxidação. Portanto, o revestimento de revestimento SiC CVD tem uma boa resistência e resistência à alta temperatura e geralmente é usada para isolamento térmico e suporte de câmaras de reação epitaxial.

Propriedades de feltro rígidas de grafite de alta pureza:

● Resistência à alta temperatura: CVD SiC Coating Felt rígido pode suportar temperaturas de até 1000 ℃ ou mais, dependendo do tipo de material.

● Estabilidade química: CVD SiC Coating Feel Rígido pode permanecer estável no ambiente químico do crescimento epitaxial e suportar a erosão de gases corrosivos.

● Desempenho de isolamento térmico: CVD SiC O revestimento rígido Feel tem um bom efeito de isolamento térmico e pode efetivamente impedir que o calor se dissipe da câmara de reação.

● Força mecânica: SiC Coating Hard Felt tem uma boa resistência e rigidez mecânica, para que ainda possa manter sua forma e suportar outros componentes em altas temperaturas.

Feltro de grafite rígidoFunção:

● Isolamento térmico: CVD SiC Coating Rigid Felt fornece isolamento térmico paraSiC epitaxialAs câmaras de reação mantêm o ambiente de alta temperatura na câmara e garante a estabilidade do crescimento epitaxial.

● Suporte estrutural: CVD SiC Coating Rigid Felt fornece suporte paraPeças de meia -luae outros componentes para evitar possíveis deformação ou dano sob alta temperatura e alta pressão.

● Controle de fluxo de gás: Ajuda a controlar o fluxo e a distribuição do gás na câmara de reação, garantindo a uniformidade do gás em diferentes áreas, melhorando assim a qualidade da camada epitaxial.

O vetek semicondutor pode fornecer a você um revestimento CVD SIC personalizado, rígido, de acordo com suas necessidades. O vetek semicondutor está aguardando sua consulta.

o Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade	Valor típico
Estrutura cristalina	Policristalina da fase β da FCC, principalmente (111) orientada
Densidade	3,21 g/cm³
Dureza	2500 VICKERS DUÊNDA （500G CARRE
Grão vocêe	2 ~ 10mm
Pureza química	Pureza química99.99995%
Capacidade de calor	640 J · kg^-1· K^-1
Temperatura da sublimação	2700 ℃
Força de flexão	415 MPA RT 4 pontos
Módulo de Young	430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Condutividade térmica	300W · m^-1· K^-1
Expansão térmica (CTE)	4,5 × 10^-6K^-1