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Isolamento de 4 polegadas feltro rígido - corpo
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Isolamento de 4 polegadas feltro rígido - corpo

Isolamento de 4 polegadas Filho rígido - o corpo fornecido pelo vetek semicondutor é um material de isolamento rígido feito de material de fibra de carbono de alta qualidade. Possui excelente desempenho e durabilidade do isolamento. Pode isolar efetivamente o calor, o som e o choque e é adequado para uma variedade de aplicações. O vetek semicondutor espera estabelecer um relacionamento cooperativo de longo prazo com você e se tornar um parceiro no mercado global.


Como um isolamento profissional de alta qualidade de 4 polegadas, fabricante rígido - você pode ter certeza de comprar um feltro rígido de isolamento de 4 polegadas - corpo da fábrica do vetek semicondutor.

O isolamento Rigid Felt é um tipo de material de isolamento composto projetado especialmente para um ambiente extremo de alta temperatura, o uso do processo composto de fibra de carbono e laminação de pano de carbono, combinado com a tecnologia de tratamento de carbonização/grafitização de alta temperatura, tem pureza ultra-alta (cinzas ≤10ppm), excelente estabilidade térmica e resistência mecânica. O material foi projetado para uso em sistemas de isolamento térmico nos fornos de crescimento de cristal único de carboneto de silício (SIC) para atender à exigente uniformidade do campo térmico, gradiente de temperatura e requisitos de controle de impureza do método de transferência de vapor físico (PVT).


Características de material e processo


Estrutura composta Design

Reforço do pano de carbono da superfície: Através de um processo especial para feltro de fibra de carbono e compósito de pano de carbono de alta densidade, a superfície para formar uma densa camada protetora, impedindo efetivamente a lavagem de ar de alta temperatura e o derramamento de fibra, reduz a liberação de impurezas.

Processo de integração de várias camadas: a camada central é sentida em fibra de carbono e o papel de grafite ou o pano de carbono é incorporado no meio. Após purificação secundária de alta temperatura (≥2000 ℃), a estrutura do material é densificada e as impurezas são profundamente removidas.

Pureza de impureza ultra-baixa

Conteúdo de cinzas ≤10ppm, verifique se não há íons metálicos, SiO₂ e outras impurezas volatilização em ambiente de alta temperatura, evitar poluir a interface de crescimento de cristais, melhorar a pureza do nível de cristal único e controle de defeito do carboneto de silício e nível de controle de defeitos 19.

Adaptabilidade do processo

Tratamentos de superfície personalizados (como revestimento de folha de grafite, revestimento antioxidante), adequado para o ambiente de vácuo ou gás inerte (AR, N₂), temperaturas operacionais cobrindo 1200 ° C a 3000 ° C.


Parâmetro de desempenho central


Intervalo de parâmetros indicadores Recurso
Densidade
0,42 ~ 0,55 g/cm³
Condutividade térmica (1500 ℃)
0,10-0,81 w/(m · k)
Força de flexão
1,0 ~ 2,66mpa
Força de compressão
0,91 ~ 3,2MPa
Resistividade
1000 ~ 5000 Ω · mm²/m
Temperatura de operação máxima (vácuo)
≥3000 ℃


Campos de aplicação e vantagens


Isolamento de campo de cristal de cristal único de carboneto de silício

Como o material do núcleo da camada de isolamento do forno, ele pode reduzir a perda de calor, manter o gradiente de temperatura da interface de crescimento (Δt≈20-50 ℃/cm) e garantir que a taxa de crescimento axial/radial dos cristais seja equilibrada.

Usado com feltro macio para formar uma estrutura de isolamento de gradiente, reduzir o estresse térmico e prolongar a vida útil do campo térmico.


Vantagem competitiva

Estabilidade térmica: baixo coeficiente de expansão térmica (CTE <2 × 10⁻⁶/℃), excelente resistência ao choque térmico, adequado para condições repetidas de ascensão e resfriamento.

Economia: Comparado com o feltro macio tradicional, a vida útil do serviço é aumentada de 3 a 5 vezes, reduzindo a frequência dos custos de substituição e produção de campo quente.

Personalização: Suporte ao cilindro, placa e outras formas de processamento, precisão dimensional de até ± 0,5 mm, adequada para o projeto de forno diferente.


Caso de aplicação típico

Forno de extinção a gás de alta pressão a vácuo: como escudo térmico, reduza o consumo de energia em mais de 20%

Crescimento de cristal de tamanho grande de tamanho grande: para fornos de cristal de 8 polegadas, desvio de uniformidade de campo térmico <1,5%





Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


Compare a loja de produção de semicondutores:

VeTek Semiconductor Production Shop


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