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Saia revestida com cvd sic
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Saia revestida com cvd sic

O vetek semicondutor é um fabricante líder e líder da saia revestida com CVD SIC na China. Nossos principais produtos de revestimento CVD SiC incluem saia revestida com CVD SIC, anel de revestimento CVD SIC. Ansioso pelo seu contato.

Vetek Semiconductor é um fabricante profissional de saia revestida de CVD SiC na China.

A tecnologia de epitaxia ultravioleta profunda dos equipamentos Aixtron desempenha um papel crucial na fabricação de semicondutores. Esta tecnologia usa uma fonte de luz ultravioleta profunda para depositar vários materiais na superfície do wafer por meio do crescimento epitaxial para obter controle preciso do desempenho e função do wafer. A tecnologia de epitaxia ultravioleta profunda é usada em uma ampla gama de aplicações, abrangendo a produção de vários dispositivos eletrônicos, desde LEDs até lasers semicondutores.

Neste processo, a saia revestida com CVD SiC desempenha um papel fundamental. Ele foi projetado para apoiar a lâmina epitaxial e fazer com que a lâmina epitaxial gire para garantir uniformidade e estabilidade durante o crescimento epitaxial. Ao controlar com precisão a velocidade de rotação e a direção do susceptor de grafite, o processo de crescimento do transportador epitaxial pode ser controlado com precisão.

O produto é feito de revestimento de grafite e carboneto de silício de alta qualidade, garantindo seu excelente desempenho e vida útil longa. O material de grafite importado garante a estabilidade e a confiabilidade do produto, para que possa ter um bom desempenho em vários ambientes de trabalho. Em termos de revestimento, um material de carboneto de silício inferior a 5ppm é usado para garantir a uniformidade e a estabilidade do revestimento. Ao mesmo tempo, o novo processo e o coeficiente de expansão térmica do material de grafite formam uma boa correspondência, melhoram a resistência à alta temperatura do produto e a resistência ao choque térmico, para que ainda possa manter o desempenho estável em um ambiente de alta temperatura.


Propriedades físicas básicas da saia revestida com CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura cristalina Policristalina da fase β da FCC, principalmente (111) orientada
Densidade 3,21 g/cm³
Dureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão 2 ~ 10mm
Pureza química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J · kg-1· K-1
Temperatura da sublimação 2700 ℃
Força de flexão 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade térmica 300W · m-1· K-1
Expansão térmica (CTE) 4,5×10-6K-1


VETEK SEMICONDUCOR CVD SIC SALTE SKIRT PRODUTOS DO LOJAS:

VeTek Semiconductor CVD SiC Coated Skirt products shops


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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