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O porta-bolas de revestimento de carboneto de silício por veteksemicon é projetado para precisão e desempenho em processos avançados de semicondutores, como MOCVD, LPCVD e recozimento de alta temperatura. Com um revestimento uniforme de CVD SiC, esse suporte para wafer garante condutividade térmica excepcional, inércia química e resistência mecânica-essencial para o processamento de wafer de alto rendimento e livre de contaminação.

VETEKSEMICON ALTAMENTOS SIC DE PORTULAÇÃO DE HIA PORTULAÇÃO, projetados especialmente para equipamentos de gravura semicondutores, apresentam excelente resistência à corrosão e estabilidade térmica, aumentando significativamente o rendimento da bolacha

As membranas de cerâmica veteksemicon são um tipo de membrana inorgânica e pertencem a materiais de membrana sólida na tecnologia de separação de membranas. As membranas SiC são disparadas a uma temperatura acima de 2000 ℃. A superfície das partículas é lisa e redonda. Não há poros ou canais fechados na camada de suporte e em cada camada. Eles geralmente são compostos por três camadas com diferentes tamanhos de poros.

A pasta de polimento CMP (pasta de polimento químico-mecânico) é um material de alto desempenho usado na fabricação de semicondutores e processamento de materiais de precisão. Sua função principal é obter planicidade fina e polimento da superfície do material sob o efeito sinérgico da corrosão química e retificação mecânica para atender aos requisitos de planicidade e qualidade da superfície no nível nano. Aguardamos sua consulta adicional.

Como fabricante chinês líder de produtos de carbono vítreo, os cadutores de carbono vítreo da VetekSemicon são amplamente utilizados no campo de fabricação de semicondutores devido à sua excelente pureza ultra-alta, porosidade zero, anti-permeação e excelente resistência à corrosão química e ganhou elogios de clientes europeus e americanos. Bem -vindo à sua pergunta.

Como fabricante chinesa e fornecedora chinesa de produtos de revestimento de carboneto de silício, o portador de bolacha revestido com SiC da VetekSemicon para a gravação desempenha um papel central insubstituível no processo de gravação, com sua excelente estabilidade de alta temperatura, resistência à corrosão excepcional e alta condutividade térmica.