Deposição Física de Vapor

Vetek Semiconductor é um fabricante chinês que fornece materiais semicondutores avançados em processos físicos de deposição de vapor, comoCadinho revestido de SiC, cadinho de carbono vítreo,Aquecedores de grafite de revestimento SiC, Evaporação da pistola de feixe de elétrons Cruzados.

Princípios básicos do processo PVD

Os processos físicos de deposição de vapor geralmente incluem uma variedade de métodos específicos, como evaporação, pulverização e revestimento de íons. Independentemente do método usado, o princípio básico da deposição física de vapor é vaporizar o material da fonte através de aquecimento de alta temperatura ou bombardeio de íons. O material vaporizado se move na forma de átomos ou moléculas em um ambiente de vácuo ou baixa pressão e condensa em um filme fino na superfície do substrato. Esse processo é alcançado principalmente por meios físicos, evitando assim a influência das reações químicas na pureza do material.

Vantagens da tecnologia de Deposição Física de Vapor

Alta pureza e alta densidade: Os filmes depositados em PVD geralmente apresentam alta pureza e densidade, o que pode melhorar significativamente o desempenho do revestimento, como resistência ao desgaste, resistência à corrosão e dureza.

Forte adesão do filme: O processo de PVD pode formar um filme com forte adesão no substrato, garantindo que o filme não seja fácil de retirar durante o uso, prolongando a vida útil do produto.

Ampla gama de seleção de materiais: A tecnologia PVD pode ser aplicada a uma variedade de materiais, incluindo metais, cerâmicas e ligas, e pode preparar vários revestimentos funcionais, como revestimentos condutores, isolantes, resistentes ao calor e antioxidantes.

Proteção ambiental e sustentabilidade: Comparado com processos como a deposição química de vapor (CVD), o processo de Deposição Física de Vapor (PVD) é mais ecológico, não envolve a geração de gases nocivos e reduz a poluição do meio ambiente.

Aplicação da tecnologia de PVD

Indústria de semicondutores: Na fabricação de semicondutores, a deposição física de vapor é frequentemente usada na preparação de eletrodos de filme fino, barreiras de difusão e interconexões de metal para garantir que os componentes tenham boa condutividade e estabilidade.

Dispositivos ópticos: A tecnologia de deposição física de vapor é amplamente utilizada em revestimentos ópticos, como revestimentos anti-reflexos para espelhos e lentes, e na fabricação de filtros ópticos para melhorar o desempenho de dispositivos ópticos.