Produtos
Polido de CMP Plata
  • Polido de CMP PlataPolido de CMP Plata

Polido de CMP Plata

A pasta de polimento do CMP (pasta de polimento mecânica química) é um material de alto desempenho usado na fabricação de semicondutores e processamento de material de precisão. Sua função central é alcançar o nivelamento fino e o polimento da superfície do material sob o efeito sinérgico da corrosão química e da moagem mecânica para atender aos requisitos de qualidade e qualidade da superfície no nível nano. Ansioso por sua consulta adicional.

A pasta de polimento CMP do VETEKSEMICON é usada principalmente como um abrasivo de polimento na pasta de polimento mecânico químico do CMP para planejar materiais semicondutores. Tem as seguintes vantagens:

O diâmetro e o grau da associação de partículas das partículas pode ser controlado livremente;
As partículas são monodispersas e a distribuição do tamanho das partículas é uniforme;
O sistema de dispersão é estável;
A escala de produção em massa é grande e a diferença entre lotes é pequena;
Não é fácil condensar e se estabelecer.


Indicadores de desempenho para produtos da série de pureza ultra-alta

Parâmetro
Unidade
Indicadores de desempenho para produtos da série de pureza ultra-alta

Bispo
Bispo2
Bispo3
Bispo4
Bispo-5
Bispo6
Bispo7
Tamanho médio de partícula de sílica
nm
35 ± 5
45 ± 5
65 ± 5
75 ± 5
85 ± 5
100 ± 5
120 ± 5
Distribuição de tamanho de nanopartículas (PDI)
1 <0,15
<0,15
<0,15
<0,15
<0,15
<0,15
<0,15
Solução pH
1 7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
7.2-7.4
Conteúdo sólido
% 20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
20,5 ± 0,5
Aparência
-
Azul claro
Azul
Branco
Off white
Off white
Off white
Off white
Morfologia de partículas x
X : S-Ferical ; B-curvo ; P- em forma de amendoim ; t-bulbous ; C-Chain (estado agregado)
Íons estabilizadores
Aminas orgânicas / inorgânicas
Composição de matéria -prima y
E : m-tmos ; e-you ; me-tamos+teos ; em-ezos+tmos
Conteúdo de impureza metálica
≤ 300ppb


Aplicações de produtos de polimento de polimento CMP:


● Materiais de ILD de circuito integrado CMP

● Circuito integrado Poly-Si Materiais CMP

● Materiais de wafer de cristal de cristal semicondutores CMP

● Materiais de carboneto de silício semicondutores CMP

● Circuito integrado Materiais STI CMP

● Circuito integrado Materiais de camada de metal e metal CMP


Hot Tags: Polido de CMP Plata
Enviar consulta
Informações de contato
Para dúvidas sobre revestimento de carboneto de silício, revestimento de carboneto de tântalo, grafite especial ou lista de preços, deixe seu e-mail para nós e entraremos em contato em até 24 horas.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept