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O carboneto de silício é um dos materiais ideais para fabricar dispositivos de alta temperatura, alta frequência, de alta potência e de alta tensão. Para melhorar a eficiência da produção e reduzir os custos, a preparação de substratos de carboneto de silício de tamanho grande é uma importante direção de desenvolvimento.

De acordo com o Overseas News, duas fontes revelaram em 24 de junho que a Bytedance está trabalhando com a empresa de design de chips da US Broadcom para desenvolver um processador de computação avançado de inteligência artificial (AI), o que ajudará a garantir um suprimento adequado de chips de ponta em meio a tensões entre a China e os Estados Unidos.

Como fabricante líder na indústria da SIC, a dinâmica relacionada à Sanan Optoelectronics recebeu ampla atenção no setor. Recentemente, a Sanan Optoelectronics divulgou uma série de desenvolvimentos mais recentes, envolvendo transformação de 8 polegadas, nova produção de fábrica de substratos, estabelecimento de novas empresas, subsídios governamentais e outros aspectos.

No crescimento de monocristais de SiC e AlN usando o método de transporte físico de vapor (PVT), componentes cruciais como o cadinho, o porta-sementes e o anel guia desempenham um papel vital. Conforme ilustrado na Figura 2 [1], durante o processo PVT, o cristal semente é posicionado na região de temperatura mais baixa, enquanto a matéria-prima SiC é exposta a temperaturas mais altas (acima de 2.400 ℃).

Os substratos de carboneto de silício têm muitos defeitos e não podem ser processados ​​diretamente. Um filme fino de cristal único específico precisa ser cultivado neles através de um processo epitaxial para fazer bolachas de chip. Este filme fino é a camada epitaxial. Quase todos os dispositivos de carboneto de silício são realizados em materiais epitaxiais. Os materiais epitaxiais homogêneos de carboneto de silício de alta qualidade são a base para o desenvolvimento de dispositivos de carboneto de silício. O desempenho dos materiais epitaxiais determina diretamente a realização do desempenho dos dispositivos de carboneto de silício.

O carboneto de silício está remodelando a indústria de semicondutores para aplicações de energia e alta temperatura, com suas propriedades abrangentes, de substratos epitaxiais a revestimentos de proteção a veículos elétricos e sistemas de energia renovável.