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Como resolver o problema de fissuras de sinterização em cerâmicas de carboneto de silício? - Semicondutor VeTek29 2024-10

Como resolver o problema de fissuras de sinterização em cerâmicas de carboneto de silício? - Semicondutor VeTek

Este artigo descreve principalmente as amplas perspectivas de aplicação da cerâmica de carboneto de silício. Também se concentra na análise das causas das fissuras de sinterização em cerâmicas de carboneto de silício e nas soluções correspondentes.
Os problemas no processo de gravação24 2024-10

Os problemas no processo de gravação

A tecnologia de gravação na fabricação de semicondutores freqüentemente encontra problemas como efeito de carga, efeito de microranhura e efeito de carga, que afetam a qualidade do produto. As soluções de melhoria incluem otimizar a densidade do plasma, ajustar a composição do gás de reação, melhorar a eficiência do sistema de vácuo, projetar um layout de litografia razoável e selecionar materiais de máscara de gravação e condições de processo apropriados.
O que é a cerâmica de sic prensada a quente?24 2024-10

O que é a cerâmica de sic prensada a quente?

A sinterização a quente é o principal método para a preparação da cerâmica sic de alto desempenho. O processo de sinterização de prensagem a quente inclui: selecionando pó de alta pureza, pressionando e moldando sob alta temperatura e alta pressão e depois sinterização. A cerâmica do siC preparada por esse método tem as vantagens de alta pureza e alta densidade e são amplamente utilizadas em discos de moagem e equipamentos de tratamento térmico para processamento de bolacas.
Aplicação de materiais de campo térmico à base de carbono no crescimento de cristais de carboneto de silício21 2024-10

Aplicação de materiais de campo térmico à base de carbono no crescimento de cristais de carboneto de silício

Os principais métodos de crescimento do carboneto de silício (SiC) incluem PVT, TSSG e HTCVD, cada um com vantagens e desafios distintos. Materiais de campo térmico à base de carbono, como sistemas de isolamento, cadinhos, revestimentos de TaC e grafite porosa, melhoram o crescimento do cristal, fornecendo estabilidade, condutividade térmica e pureza, essenciais para a fabricação e aplicação precisas do SiC.
Por que o SiC Coating recebe tanta atenção? - Vetek Semicondutor17 2024-10

Por que o SiC Coating recebe tanta atenção? - Vetek Semicondutor

O SiC possui alta dureza, condutividade térmica e resistência à corrosão, tornando-o ideal para a fabricação de semicondutores. O revestimento CVD SiC é criado por meio de deposição química de vapor, proporcionando alta condutividade térmica, estabilidade química e uma constante de rede correspondente para crescimento epitaxial. Sua baixa expansão térmica e alta dureza garantem durabilidade e precisão, tornando-o essencial em aplicações como transportadores de wafer, anéis de pré-aquecimento e muito mais. A VeTek Semiconductor é especializada em revestimentos SiC personalizados para diversas necessidades da indústria.
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