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Princípios e tecnologia de revestimento de deposição física de vapor (PVD) (2/2) - VeTek Semiconductor24 2024-09

Princípios e tecnologia de revestimento de deposição física de vapor (PVD) (2/2) - VeTek Semiconductor

A evaporação por feixe de elétrons é um método de revestimento altamente eficiente e amplamente utilizado em comparação ao aquecimento por resistência, que aquece o material de evaporação com um feixe de elétrons, fazendo com que ele vaporize e condense em uma película fina.
Princípios e tecnologia do revestimento físico de deposição de vapor (1/2) - vetek semicondutor24 2024-09

Princípios e tecnologia do revestimento físico de deposição de vapor (1/2) - vetek semicondutor

O revestimento a vácuo inclui vaporização de material de filme, transporte a vácuo e crescimento fino do filme. De acordo com os diferentes métodos de vaporização do material de filme e processos de transporte, o revestimento a vácuo pode ser dividido em duas categorias: PVD e DCV.
O que é grafite porosa? - Vetek Semicondutor23 2024-09

O que é grafite porosa? - Vetek Semicondutor

Este artigo descreve os parâmetros físicos e as características do produto da grafite porosa do vetek semicondutor, bem como suas aplicações específicas no processamento de semicondutores.
Qual é a diferença entre os revestimentos de carboneto de silício e tantalum?19 2024-09

Qual é a diferença entre os revestimentos de carboneto de silício e tantalum?

Este artigo analisa as características do produto e os cenários de aplicação do revestimento de carboneto de Tantalum e revestimento de carboneto de silício de múltiplas perspectivas.
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