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Este artigo analisa as características do produto e os cenários de aplicação do revestimento de carboneto de Tantalum e revestimento de carboneto de silício de múltiplas perspectivas.

A deposição de filmes finos é vital na fabricação de chips, criando micro dispositivos depositando filmes com menos de 1 mícrons de espessura via CVD, ALD ou PVD. Esses processos constroem componentes semicondutores por meio de filmes condutores e isolantes alternados.

O processo de fabricação de semicondutores envolve oito etapas: processamento de bolas, oxidação, litografia, gravura, deposição de filmes finos, interconexão, teste e embalagem. O silício da areia é processado em bolachas, oxidadas, padronizadas e gravadas para circuitos de alta precisão.

Este artigo descreve que o substrato de LED é a maior aplicação de safira, bem como os principais métodos de preparação de cristais de safira: cultivo de cristais de safira pelo método Czochralski, crescendo cristais de safira pelos métodos de kyropoulos, os métodos de cultivo de sabores.

O artigo explica o gradiente de temperatura em um forno de cristal único. Ele abrange os campos de calor estático e dinâmico durante o crescimento do cristal, a interface sólida-líquido e o papel do gradiente de temperatura na solidificação.

O processo de Taiko divide as bolachas de silício usando seus princípios, vantagens técnicas e origens do processo.