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Mandril eletrostático cerâmico de nitreto de alumínio (AlN)
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Mandril eletrostático cerâmico de nitreto de alumínio (AlN)

Os mandris eletrostáticos cerâmicos de nitreto de alumínio (ESCs) VeTek são plataformas de fixação de wafer de alta condutividade térmica projetadas para ferramentas de processo de semicondutores que exigem controle preciso de temperatura, retenção eletrostática estável e baixa geração de partículas. Fabricados com cerâmica AlN de alta pureza, esses mandris oferecem excelente distribuição de calor, alto isolamento elétrico e fixação Coulomb ou Johnsen–Rahbek confiável para processos de wafer de 150 mm, 200 mm e 300 mm.
    Avaliação: 5.0
    (Contagem de classificação: 1)

    1.Vantagens

    • Cerâmica AlN de alta pureza com condutividade térmica de até ~180 W/m·K para transferência de calor eficiente e uniformidade de temperatura

    • Isolamento elétrico forte e resistividade de alto volume que suportam fixação estável de 1 a 3 kV (tensões mais altas disponíveis)

    • Materiais de camada dielétrica personalizados e layouts de eletrodo: Coulomb ou Johnsen – Rahbek (JR); zona única ou multizona

    • Desempenho rápido de fixação e desfixação, normalmente abaixo de 0,1 segundo

    • Microestruturas onduladas na superfície até ~300 μm de diâmetro, reduzindo a área de contato para até ~1%

    • Alta capacidade de planicidade; planicidade global típica da ordem de 0,5–3 μm PV para plataformas de classe de 300 mm

    • Microestrutura densa com absorção de água quase nula e boa resistência química para ambientes de processo

    2.Aplicações Típicas

    Os mandris eletrostáticos cerâmicos de nitreto de alumínio são usados ​​em etapas de processo que exigem fixação segura do wafer e comportamento térmico controlado:

    • Gravura com plasma seco (ICP/RIE) e processos de câmara relacionados

    • CVD, PEALD, ALD térmico e outros estágios de deposição de filmes finos

    • Módulos de recozimento e processo térmico que exigem temperatura uniforme do wafer

    • Estágios de inspeção, metrologia e precisão onde o baixo teor de partículas e a fixação estável são essenciais

    3.Classes de materiais AlN – Propriedades típicas

    A VeTek oferece vários graus de nitreto de alumínio para equilibrar condutividade térmica, resistência mecânica e custo para projetos ESC:

    Propriedade

    AIN-HC95

    AIN-HP95

    AIN99

    AIN999

    AIN-HP999

    AIN-HP999LR

    Cor

    Cinza

    Cinza

    Cinza

    Cinza

    Cinza

    Cinza

    Pureza

    ≥95%

    ≥95%

    ≥99%

    ≥99,9%

    ≥99,9%

    ≥99,9%

    Densidade (g/cm³)

    3.3

    3.3

    3.3

    3.2

    3.3

    3.3

    Absorção de Água (%)

    0

    0

    0

    0

    0

    0

    Dureza HV (GPa)

    10

    10

    10

    10

    10

    10

    Resistência à Flexão (MPa)

    380

    400

    350

    310

    360

    310

    Módulo Elástico (GPa)

    320

    300

    300

    300

    300

    300

    Resistência à fratura

    3

    3.4

    3

    2.8

    2.3

    3.3

    CTE (×10⁻⁶/°C)

    4.6

    5.7

    5.2

    5.5

    5.7

    5.4

    Condutividade Térmica

    180

    180

    100

    90

    90

    90

    Choque Térmico (°C)

    400

    500

    —

    —

    350

    —

    Resistência Dielétrica

    16

    16

    —

    16

    —

    —

    Resistividade de volume

    1×10¹⁴

    1×10¹⁵

    1×10¹⁵

    —

    1×10¹⁵

    Ajustável

    Constante Dielétrica

    8.6

    8.6

    8.5

    8.5

    —

    —

    Unidades: Condutividade térmica em W/(m·K); rigidez dielétrica em kV/mm; resistividade volumétrica em Ω·cm (25 °C); constante dielétrica em 1 MHz. Os valores são típicos e podem variar de acordo com o processo e a geometria da peça.

    4.Parâmetros típicos de projeto ESC

    Parâmetro

    Valor/intervalo típico

    Material cerâmico

    Nitreto de alumínio (AlN)

    Tipo ESC

    Coulomb / Johnsen-Rahbek (JR)

    Layout do eletrodo

    Zona única ou multizona

    Rota de fabricação

    Prensagem a quente (AlN preferido para classes de alto TC)

    Tempo de fixação/desfixação

    < 0,1 s (típico)

    Diâmetro da covinha (mín.)

    ~300 μm

    Área de contato (com covinhas)

    Pode ser reduzido para ~1%

    Planicidade global (classe 300 mm)

    ~0,5–3 μm PV (típico)

    Tensão de fixação

    Padrão de 1–3kV; projetos >15 kV possíveis

    5.Por que ChooVocê conhece os mandris eletrostáticos VeTek AlN?

    A VeTek Semiconductor integra cerâmica AlN avançada com fabricação ESC de precisão para clientes de semicondutores que precisam de desempenho térmico e fixação confiável:

    • Vários graus de AlN com condutividade térmica de ~90 a ~180 W/m·K para atender aos orçamentos térmicos do processo

    • Eletrodo flexível e design dielétrico para comportamento de fixação Coulomb ou JR

    • Controle rígido de planicidade, microestrutura de superfície e desempenho de isolamento elétrico

    • Suporte completo ao ciclo de vida: projeto, nova construção e reforma em vários níveis

    Para ferramentas de corrosão, deposição e térmicas que dependem de temperatura uniforme do wafer e fixação limpa e repetível, os mandris eletrostáticos cerâmicos de nitreto de alumínio VeTek fornecem uma plataforma cerâmica de alto desempenho apoiada por suporte de engenharia focado na aplicação.

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