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Susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD
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Susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD

VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor líder de susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD na China, especializado em aplicações de revestimento de SiC e produtos semicondutores epitaxiais para a indústria de semicondutores. Nossos susceptores de grafite revestidos com SiC MOCVD oferecem qualidade e preços competitivos, atendendo mercados em toda a Europa e América. Temos o compromisso de nos tornar seu parceiro confiável e de longo prazo no avanço da fabricação de semicondutores.

O susceptor de grafite revestido com SiC da VeTek Semiconductor para MOCVD é um transportador de grafite revestido com SiC de alta pureza, projetado especificamente para o crescimento da camada epitaxial em chips wafer. Como componente central no processamento MOCVD, normalmente em forma de engrenagem ou anel, possui excepcional resistência ao calor e à corrosão, garantindo estabilidade em ambientes extremos.


Principais recursos do susceptor de grafite revestido com SiC MOCVD:


● Coating resistente a flocos: Garante cobertura uniforme de revestimento SiC em todas as superfícies, reduzindo o risco de descolamento de partículas

● Excelente resistência de oxidação de alta temperaturace: Permanece estável em temperaturas de até 1600°C

●   Alta Pureza: Fabricado através de deposição de vapor químico CVD, adequado para condições de cloração de alta temperatura

● Resistência superior à corrosão: Altamente resistente a ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos

●   Padrão de fluxo de ar laminar otimizado: Melhora a uniformidade da dinâmica do fluxo de ar

● Distribuição térmica uniforme: Garante uma distribuição estável de calor durante processos de alta temperatura

●   Prevenção de contaminação: Impede a difusão de contaminantes ou impurezas, garantindo a limpeza do wafer


Na VeTek Semiconductor, aderimos a rígidos padrões de qualidade, entregando produtos e serviços confiáveis ​​aos nossos clientes. Selecionamos apenas materiais premium, nos esforçando para atender e superar os requisitos de desempenho da indústria. Nosso susceptor de grafite revestido com SiC para MOCVD exemplifica esse compromisso com a qualidade. Entre em contato conosco para saber mais sobre como podemos atender às suas necessidades de processamento de wafers semicondutores.


ESTRUTURA DE CRISTAL DO FILME CVD SIC:


SEM DATA OF CVD SIC FILM


Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade
Valor típico
Estrutura Cristalina
FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade
3,21 g/cm³
Dureza
2500 VICKERS DUÊNDA (500G CARRE
Tamanho de grão
2~10μm
Pureza Química
99,99995%
Capacidade de calor
640 J · kg-1· K-1
Temperatura da sublimação
2700 ℃
Resistência à Flexão
415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young
Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade térmica
300W · m-1· K-1
Expansão Térmica (CTE)
4,5 × 10-6K-1



É semicondutor MOCVD Assim suporte de grafite revestido;

VeTekSemi MOCVD SiC Coated Graphite Susceptor


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