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Banho de quartzo semicondutor
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Banho de quartzo semicondutor

A veteksemicon é um fornecedor líder de acessórios relacionados a semicondutores na China. O banho de quartzo semicondutores é um dispositivo de alto desempenho projetado para a limpeza da bolas de silício. Feito de quartzo de alta pureza, ele possui excelente resistência à alta temperatura (0 ° C a 1200 ° C) e resistência à corrosão. Ele pode acomodar até 50 bolachas com um diâmetro máximo de 300 mm e suporta a personalização de tamanho especial. Ansioso por sua pergunta.

O banho de quartzo do vetek semicondutor foi projetado para limpeza e processamento de bolachas de silício e é amplamente utilizado em semicondutores, fotovoltaicos e outros campos. O banho de quartzo para o semicondutor é feito de material de quartzo de alta pureza, possui excelente resistência à alta temperatura e estabilidade química e pode funcionar de forma estável em ambientes de alta e alta corrosão. Seja limpando grandes bolachas com um diâmetro de 300 mm ou requisitos personalizados de outras especificações, o banho de quartzo semicondutor pode fornecer soluções eficientes e confiáveis ​​para capacitar sua linha de produção.


Banho de quartzo semicondutor Recursos do produto


Quartz bath for Semiconductor

1. Design de grande capacidade para atender às necessidades de limpeza em lote

● Acomoda 50 bolachas: o design padrão do banho de quartzo semicondutor suporta a limpeza de até 50 bolachas ao mesmo tempo, melhorando bastante a eficiência da limpeza.

● Compatível com vários tamanhos: suporta bolachas com um diâmetro máximo de 300 mm e também pode ser personalizado de acordo com as necessidades. Outros tamanhos, como 150 mm ou 200 mm, podem atender às necessidades de diferentes fluxos de processo.

● Design modular: adequado para silíciobolachasde diferentes especificações, suporta comutação rápida e responde com flexibilidade a várias tarefas de limpeza.


2. Material de quartzo de alta pureza, excelente garantia de desempenho

● Resistência à alta temperatura: o material de quartzo pode suportar a faixa de temperatura de 0 ° C a 1200 ° C, adequada para uma variedade de processos de limpeza térmica e tratamento térmico.

● Resistência à corrosão:Tanque de quartzopode resistir à corrosão de ácidos fortes (como HF, HCL) e alcalis fortes por um longo tempo, e é particularmente adequado para o tratamento de circulação de soluções de gravação química ou soluções de limpeza.

● Alta limpeza: a superfície da parede interna do tanque de quartzo semicondutores é suave e não possui poros, e não adsorve partículas ou resíduos químicos, evitando efetivamente a contaminação dos chips.


3. Personalização flexível para atender aos diferentes requisitos de processo

● Personalização de tamanho: ajuste o tamanho, profundidade e capacidade do banho de acordo com o usuário precisa suportar as necessidades de limpeza das especificações especiais do chip.

● Suporte para integração automatizada: compatível com equipamentos de automação industrial para obter uma operação totalmente automatizada da limpeza de chips.


4. Processo de alta precisão para garantir a qualidade do produto

● Soldagem e processamento precisos: use a tecnologia avançada de processamento para garantir a estabilidade e a vedação do equipamento em ambientes de alta temperatura e alta pressão.

● Design durável: após vários testes de durabilidade, verifique se o equipamento é executado como antes sob uso de alta frequência de longo prazo.

● Alta confiabilidade: evite arranhões, quebra ou contaminação cruzada de bolachas durante a limpeza e melhore a taxa de rendimento.


Parâmetros técnicos de banho de quartzo semicondutores


Item do parâmetro
Descrição detalhada
Material
Quartzo de alta pureza (pureza SiO₂> 99,99%)
Capacidade máxima
Pode acomodar 50 bolachas (personalizáveis)
Diâmetro da bolacha
Suporte máximo de 300 mm (personalizável)
Faixa de temperatura
0 ° C a 1200 ° C.
Resistência química
Resistente a ácidos fortes e álcalis como HF, Hno₃, HCl

Cenários aplicáveis ​​de banho de quartzo para semicondutor


1. Indústria de semicondutores

● Limpeza de bolas de silício: usado para remover partículas, camadas de óxido e resíduos orgânicos na superfície da bolacha.

● Etaço de tratamento líquido: cooperar com o processo de gravação química para remover com precisão os materiais em áreas específicas.

2. Indústria fotovoltaica

● Limpeza de células solares: remova os poluentes gerados durante o processo de produção e melhore a eficiência de conversão da célula.

3. Experimentos de pesquisa científica

● Ciência do material: adequado para limpar amostras experimentais de alta pureza.

● Processamento de micro-nano: suporta uma variedade de equipamentos experimentais e fluxos de processo.


É semicondutor lojas de produção de banho de quartzo

SiC Coating Wafer CarrierPVT growth of SiC single crystal process equipmentCVD SiC Focus RingSemiconductor Quartz tank Equipment


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