Tubo de forno de quartzo para forno de difusão

1. Principais recursos e vantagens

• Quartzo fundido desidroxilado de altíssima pureza (SiO₂ ≥ 99,999%) com impurezas metálicas controladas em níveis de ppb e teor de hidroxila extremamente baixo

• Temperatura operacional de longo prazo até 1100 °C; resistência de pico de curto prazo até 1200 °C

• Excelente resistência ao choque térmico após recozimento total com alívio de tensão - resistente a rachaduras sob rápidas mudanças de temperatura

• Excelente inércia química contra gases de processo oxidantes, redutores e contendo halogênio; adequado para plasma e atmosferas corrosivas

• Desgaseificação de vácuo muito baixo; parede interna lisa minimiza o acúmulo de subprodutos e oferece suporte à repetibilidade do processo

• Conformação de peça única com espessura de parede uniforme, alta coaxialidade e extremidades com acabamento preciso para vedação confiável

• Estruturas personalizáveis: tubos retos, tubos redutores, tubos flangeados, comprimentos estendidos e configurações finais especiais para fornos verticais ou horizontais

2. Aplicações Típicas

Os tubos de forno de quartzo VeTek são amplamente utilizados como câmara de reação central em:

• Fornos de oxidação térmica (oxidação seca/úmida)

• Fornos de difusão para introdução de dopantes (B, P, As, etc.)

• Sistemas LPCVD para deposição de filmes finos

• Recozimento a vácuo e outros processos de tratamento térmico em alta temperatura

• Compatível com plataformas wafer de 4, 6, 8 e 12 polegadas (substratos de Si, SiC, GaN e safira)

Eles suportam linhas de fabricação de lógica, memória, dispositivo de energia, MCU, LED, MEMS e semicondutores de banda larga que exigem uniformidade de temperatura estável, controle de fluxo de gás e ambientes de processo ultralimpos.

3. Principais parâmetros técnicos

• Material: Quartzo fundido desidroxilado de grau semicondutor (SiO₂ ≥ 99,999%), baixo teor de hidroxila e baixo teor de impurezas metálicas

• Compatibilidade com wafer: 4/6/8/12 polegadas

• Temperatura de trabalho a longo prazo: −20 °C a 1100 °C; pico de curto prazo até 1200 °C

• Processo: conformação térmica de peça única, homogeneização de parede, acabamento final, recozimento com alívio de tensão, teste de vazamento de hélio, limpeza ultralimpa

• Estruturas disponíveis: tubo reto, tubo redutor, tubo flangeado, tubo estendido/de comprimento personalizado, configurações de extremidade especial

• Personalização: diâmetro interno/externo, comprimento, espessura da parede, especificações de flange e geometrias especiais de acordo com desenhos do cliente

4. Por que escolher os tubos para forno de quartzo VeTek?

Como fabricante profissional de componentes semicondutores de quartzo, a VeTek Semiconductor oferece:

• Tubos de forno de quartzo de alta pureza projetados para equipamentos de oxidação, difusão, LPCVD e recozimento

• Rigoroso controle de pureza, precisão dimensional e limpeza adequada para produção em salas limpas Classe 10/Classe 100

• Personalização total e designs compatíveis com OEM para fornos tubulares verticais e horizontais

• Produtos complementares de quartzo semicondutores, incluindo barcos wafer, cadinhos, revestimentos e outros componentes de processo

Nossos tubos de forno de quartzo ajudam a manter condições térmicas e de fluxo de gás estáveis, minimizam a contaminação por partículas e metais e prolongam a vida útil sob ciclos contínuos de alta temperatura, proporcionando maior rendimento e menor custo de propriedade no processamento térmico de semicondutores.