Feltro macio de fibra de carbono baseado em PAN

1. Fatores essenciais de desempenho

• Alta Pureza:Classes de alta pureza com teor de cinzas mantido abaixo de 20 ppm, para evitar contaminação durante o crescimento de semicondutores sensíveis.
• Eficiência Térmica:A baixa condutividade térmica de 0,1-0,13 W/(m*k) a 25°C mantém gradientes de temperatura estáveis ​​e reduz a perda de energia.
• Resistência ao calor:Estabilidade confiável mesmo em ambientes superiores a 2.200°C.
• Integridade Estrutural:Nosso processo de formação por jato de ar mantém as fibras uniformes. Isto evita os pontos críticos e a fadiga do material que muitas vezes perturbam os longos ciclos de crescimento.  

3. Aplicações

Produção de semicondutores:Esta é uma camada de isolamento chave para configurações de forno de crescimento de cristal de silício monocristalino e SiC.

Comunicações de fibra óptica:Ideal para uso em fornos de sinterização, torres de trefilação e produção de barras em alta temperatura.

Pesquisa Avançada:Confiável em fornos de crescimento de safira e sistemas especializados de purificação de alta temperatura.

4. Por que escolher a VETEK?

Rendimento mais rápido:Ao utilizar materiais de baixo calor específico, tornamos o ciclo térmico muito mais rápido – isso aumenta diretamente o seu rendimento diário.

Blindagem confiável:Nosso foco de produção está no controle rigoroso da densidade da fibra; eliminamos pontos fracos para que você obtenha blindagem confiável em toda a câmara.

Padrões HPSI:Para processos HPSI e RF, nossos padrões de alta pureza são projetados especificamente para atender a esses requisitos sensíveis e de alta resistividade.
Instalação simples:Como o material é naturalmente flexível, pode ser cortado com precisão para se ajustar a geometrias complexas, o que realmente ajuda a simplificar todo o processo de instalação.