Pino de elevação de wafer SiC AMAT 0200-03201 CVD

Recursos do produto

 ● Núcleo de grafite de alta pureza + revestimento CVD SiC – construído para produção real de semicondutores.

 ● Lida com execuções de epitaxia em alta temperatura sem perder a estabilidade mecânica, ciclo após ciclo.

 ● O formato de parede fina reduz a massa térmica e melhora a precisão do manuseio do wafer.

 ● A camada de SiC resiste a gases de processo agressivos e limpeza química.

 ● Revestimento suave e uniforme significa menos derramamento de partículas e processamento mais estável. Mantemos tolerâncias rígidas com usinagem CNC para peças semicondutoras críticas.

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC

Aplicativos

 ● Epitaxia de silício (Si EPI) – levantamento, posicionamento e movimentação de wafers dentro de reatores de 300 mm.

 ● Processamento geral de wafers semicondutores onde você precisa de estabilidade térmica, resistência à corrosão, baixo teor de partículas e longa vida útil das peças.

 ● Câmaras de epitaxia AMAT e sistemas de manuseio de wafers compatíveis.

Por que escolher o semicondutor VeTek

 ● Grafite revestida com SiC de alta pureza destinada ao uso em semicondutores.

 ● A estabilidade térmica e a resistência química são sólidas.

 ● Mantenha as tolerâncias rigorosas – a usinagem de precisão é o nosso objetivo.

 ● Compatível com AMAT, ASM, Aixtron e LPE.