Produtos
Componente de teto Aixtron G5+
  • Componente de teto Aixtron G5+Componente de teto Aixtron G5+

Componente de teto Aixtron G5+

O vetek semicondutor tornou -se um fornecedor de consumíveis para muitos equipamentos de MOCVD com seus recursos superiores de processamento. O componente do teto Aixtron G5+ é um dos nossos produtos mais recentes, que é quase o mesmo que o componente Aixtron original e recebeu um bom feedback dos clientes. Se você precisar desses produtos, entre em contato com o vetek semicondutor!

O nitreto de gálio (GaN) é um material semicondutor de banda amplo, com excelentes propriedades físicas, como alta mobilidade de elétrons, campo elétrico de ruptura de alta ruptura e velocidade de elétrons de alta saturação. É amplamente utilizado em dispositivos optoeletrônicos (como diodos emissores de luz, diodos a laser) e dispositivos eletrônicos de alta potência de alta frequência (como amplificadores de potência). O silício (SI) é um material de substrato semicondutor comumente usado com as vantagens de baixo custo, tamanho grande e compatibilidade com os processos de circuito integrado baseados em silício existentes. Portanto, o crescimento de camadas epitaxiais GaN no SI é um tópico de pesquisa muito valioso. A série Aixtron G5+ é um dos equipamentos de crescimento epitaxial de Gan mais quentes do SI no momento, que possui muitos componentes importantes, e o componente de teto é um dos componentes importantes.


Aixtron G5+ ceiling working diagram

O componente de teto Aixtron G5+ é feito de grafite SGL. A principal função é controlar a temperatura e garantir o fluxo de calor mais baixo através da bolacha.


 Controle de uniformidade de temperatura: 

O componente de teto Aixtron G5+ ajuda a obter distribuição uniforme de temperatura em toda a câmara de reação. No processo de crescimento epitaxial semicondutor, a uniformidade da temperatura é crucial para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade. Ele garante que a mesma temperatura da superfície possa ser obtida em todas as bolachas ou componentes de satélite, garantindo assim a consistência da taxa de crescimento e da qualidade do material epitaxial em todos os locais, melhorando assim o rendimento do processo.


 Otimize o ambiente de crescimento: 

Como parte da câmara de reação, o componente do teto Aixtron G5+ forma um ambiente de crescimento estável junto com outros componentes. Pode reduzir a perda de calor e tornar a temperatura na câmara de reação mais estável, o que é propício para controlar com precisão as condições para o crescimento epitaxial e reduzir os defeitos da camada epitaxial e a não uniformidade do desempenho causada por flutuações de temperatura.


O componente de teto Aixtron G5+ é um dos produtos convencionais da indústria lançada pelo vetek semicondutor. Escolher o vetek semicondutor significa parceria com uma empresa comprometida em ultrapassar os limites da inovação de revestimento de carboneto de silício. Com uma forte ênfase na qualidade, desempenho e satisfação do cliente, entregamos produtos que não apenas atendem, mas excedem as demandas rigorosas da indústria de semicondutores. Vamos ajudá -lo a alcançar maior eficiência, confiabilidade e sucesso em suas operações com nossas soluções avançadas de componentes do teto Aixtron G5+.

Dados de material da grafite SGL 6510:

Propriedades típicas
Unidades
Padrões de teste
Valores
Tamanho médio de grão
μm
ISO 13320
10
Densidade a granel
g/cm3
Da IEC 60413/204
1.83
Porosidade aberta
Vol.%
De 66133
10
Diâmetro de entrada de poros médios
μm
De 66133
1.8
Coeficiente de permeabilidade (temperatura ambiente)
cm2/s
De 51935
0.06
Rockwell dureza hr5/100
\ Da IEC 60413/303
90
Resistividade
μωm
Da IEC 60413/402
13
Força de flexão
MPA
Da IEC 60413/501
60
Força de compressão
MPA
De 51910
130
Módulo dinâmico de elasticidade
MPA
De 51915
11,5 x 103
Expansão térmica (20-200 ℃)
K-1
De 51909
4.2x10-6
Condutividade térmica (20 ℃)
Wm-1K-1
De 51908
105
Conteúdo de cinzas
ppm
De 51903
\

É semicondutorLojas de produtos de componentes de teto Aixtron G5+

Semiconductor process equipmentSiC Coating Wafer CarrierCVD SiC Focus RingOxidation and Diffusion Furnace Equipment


Hot Tags: Componente de teto Aixtron G5+
Enviar consulta
Informações de contato
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Utilizamos cookies para lhe oferecer uma melhor experiência de navegação, analisar o tráfego do site e personalizar o conteúdo. Ao utilizar este site, você concorda com o uso de cookies.política de Privacidade