Barco wafer revestido com CVD SiC de alta pureza

1. Principais fatores de desempenho?

• Pureza no nível 7N:Mantemos um padrão de pureza de 99,99999% (7N). Isto não é negociável para evitar que contaminantes metálicos migrem para o wafer durante longas etapas de entrada ou oxidação.
• A vedação CVD (50–300μm):Não apenas “pintamos” a superfície. Nossa camada de SiC CVD de 50–300 μm cria uma vedação total sobre o substrato. Isso elimina a porosidade, o que significa que o barco não irá reter produtos químicos ou liberar partículas, mesmo após exposição repetida a gases reativos ou limpeza agressiva de SPM/DHF.
• Rigidez Térmica:A baixa expansão térmica natural do carboneto de silício mantém esses barcos retos. Eles não cederão ou torcerão durante o Recozimento Térmico Rápido (RTA), garantindo que o braço do robô sempre atinja o slot certo sem emperrar.
• Rendimentos Sustentados:A superfície é projetada para baixa adesão de subprodutos. Menos acúmulo significa menos partículas atingindo seus wafers e mais execuções entre os ciclos de limpeza em bancada úmida.
• Geometria personalizada:Cada fábrica tem sua própria configuração. Nós os usinamos de acordo com seus desenhos específicos de passo e ranhura, quer você esteja operando um forno horizontal ou uma linha automatizada vertical de 300 mm.

2. Compatibilidade de Processos

• Atmosfera:Resistente a ambientes TMGa, AsH₃ e alta concentração de O₂.
• Faixa Térmica:Operação estável a longo prazo até 1400°C.
• Materiais:Projetado especificamente para processos de oxidação e difusão de wafers lógicos, de potência e analógicos.