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Temos o prazer de compartilhar com você os resultados de nosso trabalho, novidades da empresa e fornecer desenvolvimentos oportunos e condições de nomeação e remoção de pessoal.
Receita de Deposição de Camada Atômica ALD27 2024-07

Receita de Deposição de Camada Atômica ALD

ALD espacial, deposição de camada atômica espacialmente isolada. A bolacha move-se entre diferentes posições e é exposta a diferentes precursores em cada posição. A figura abaixo é uma comparação entre ALD tradicional e ALD espacialmente isolada.
Tecnologia de carboneto Tantalum Avanço, poluição epitaxial do SiC reduzida em 75%?27 2024-07

Tecnologia de carboneto Tantalum Avanço, poluição epitaxial do SiC reduzida em 75%?

Recentemente, o Instituto de Pesquisa Alemão Fraunhofer IISB fez um avanço na pesquisa e desenvolvimento da tecnologia de revestimento de carboneto de tântalo e desenvolveu uma solução de revestimento de pulverização mais flexível e ambientalmente amigável que a solução de deposição de CVD e foi comercializada.
Aplicação exploratória da tecnologia de impressão 3D na indústria de semicondutores19 2024-07

Aplicação exploratória da tecnologia de impressão 3D na indústria de semicondutores

Numa era de rápido desenvolvimento tecnológico, a impressão 3D, como importante representante da tecnologia de produção avançada, está gradualmente a mudar a face da produção tradicional. Com a maturidade contínua da tecnologia e a redução de custos, a tecnologia de impressão 3D mostrou amplas perspectivas de aplicação em muitos campos, como aeroespacial, fabricação de automóveis, equipamentos médicos e design arquitetônico, e promoveu a inovação e o desenvolvimento dessas indústrias.
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